Počet záznamů: 1
Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons
- 1.
SYSNO 0352509 Název Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons Tvůrce(i) Müllerová, Ilona (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Hovorka, Miloš (UPT-D)
Frank, Luděk (UPT-D) RID, SAI, ORCIDZdroj.dok. Proceedings of 5th Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology. S. 45-48. - Toyama : University of Toyama, 2010 Konference JCNCS2010 /5./ Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology, Toyama, 12.09.2010-15.09.2010 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant IAA100650902 GA AV ČR - Akademie věd ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. JP Klíč.slova very low energy STEM * penetration of very slow electrons * graphene Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0192001
Počet záznamů: 1