Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0352509
Název	Examination of Very Thin Free-standing Films with Slow Electrons
Tvůrce(i)	Müllerová, Ilona (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID} Hovorka, Miloš (UPT-D) Frank, Luděk (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID}
Zdroj.dok.	Proceedings of 5th Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology. S. 45-48. - Toyama : University of Toyama, 2010
Konference	JCNCS2010 /5./ Japan-China-Norway Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology, Toyama, 12.09.2010-15.09.2010
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	IAA100650902 GA AV ČR - Akademie věd
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	JP
Klíč.slova	very low energy STEM * penetration of very slow electrons * graphene
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0192001

Počet záznamů: 1