Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0350671
Název	Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
Tvůrce(i)	Urbánek, Michal (UPT-D)_RID Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Král, Stanislav (UPT-D)_{RID, SAI} Dvořáková, Marie (UPT-D)
Zdroj.dok.	Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. S. 67-68. - Brno : Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2010 / Mika F.
Konference	International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /12./, Skalský dvůr, 31.05.2010-04.06.2010
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	electron beam lithography * proximity effect
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0190611

Počet záznamů: 1