Počet záznamů: 1
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
- 1.
SYSNO 0350671 Název Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography Tvůrce(i) Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Dvořáková, Marie (UPT-D)Zdroj.dok. Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. S. 67-68. - Brno : Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2010 / Mika F. Konference International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /12./, Skalský dvůr, 31.05.2010-04.06.2010 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant FR-TI1/576 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. CZ Klíč.slova electron beam lithography * proximity effect Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0190611
Počet záznamů: 1