Počet záznamů: 1
Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure
- 1.
SYSNO 0342469 Název Single shot damage mechanism of Mo/Si multilayer optics under intense pulsed XUV-exposure Tvůrce(i) Khorsand, A.R. (NL)
Sobierajski, R. (PL)
Louis, E. (NL)
Bruijn, S. (NL)
van Hattum, E.D. (NL)
van de Kruijs, R.W.E. (NL)
Jurek, M. (PL)
Klinger, D. (PL)
Pelka, J. B. (PL)
Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Burian, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID
Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Cihelka, Jaroslav (FZU-D)
Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
Vyšín, Luděk (FZU-D) RID, ORCID
Jastrow, U. (DE)
Stojanovic, N. (DE)
Toleikis, S. (DE)
Wabnitz, H. (DE)
Tiedtke, K. (DE)
Sokolowski-Tinten, K. (DE)
Shymanovich, U. (DE)
Krzywinski, J. (US)
Hau-Riege, S. (US)
London, R. (US)
Gleeson, A. (GB)
Gullikson, E.M. (US)
Bijkerk, F. (NL)Zdroj.dok. Optics Express. Roč. 18, č. 2 (2010), 700-712. - : Optical Society of America Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant KAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova laser damage * thermal effects * multilayers * optical design and fabrication * free-electron lasers Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0185200
Počet záznamů: 1