Počet záznamů: 1
Conjugated Silicon–Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes
- 1.
SYSNO 0341918 Název Conjugated Silicon–Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes Tvůrce(i) Schauer, F. (CZ)
Schauer, Petr (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Kuřitka, I. (CZ)
Hua, B. (CN)Zdroj.dok. Materials Transactions. Roč. 51, č. 2 (2010), s. 197-201. - : Japan Institute of Metals and Materials Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant IAA100100622 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. JP Klíč.slova ultra violet degradability * polysilylenes * weak bond * conformation defect * nanorezists Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0184761
Počet záznamů: 1