Počet záznamů: 1
Influence of process parameters on the properties of TEOS DF-PECVD grown SiO2 films by DOE
- 1.
SYSNO 0335271 Název Influence of process parameters on the properties of TEOS DF-PECVD grown SiO2 films by DOE Tvůrce(i) Mikmeková, Eliška (UPT-D) RID
Janča, J. (CZ)
Dvořáková, M. (CZ)Zdroj.dok. MC 2009 - Microscopy Conference: First Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Conference on Microscopy. Vol. 3: 463-464. - Graz : Verlag der Technischen Universität, 2009 Konference MC 2009 - Joint Meeting of Dreiländertagung and Multinational Congress on Microscopy /9./, Graz, 30.08.2009-04.09.2009 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. AT Klíč.slova DF-PECVD * silicon dioxide * intrinsic stress * DOE * SEM URL http://www.univie.ac.at/asem/Graz_MC_09/papers/65557.pdf Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0179780
Počet záznamů: 1