Počet záznamů: 1
ArF Laser -Induced Chemical Vapour Deposition of Polythiene Films from Carbon Disulfide
- 1.
SYSNO 0181697 Název ArF Laser -Induced Chemical Vapour Deposition of Polythiene Films from Carbon Disulfide Tvůrce(i) Tomovska, R. (MK)
Bastl, Zdeněk (UFCH-W) RID, ORCID
Vorlíček, Vladimír (FZU-D) RID
Vacek, Karel (UCHP-M)
Šubrt, Jan (UACH-T) SAI, RID
Plzák, Zbyněk (UACH-T) SAI
Pola, Josef (UCHP-M) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Journal of Physical Chemistry. B. Roč. 107, č. 36 (2003), s. 9793-9801 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant ME 612 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z4032918 - UACH-T AV0Z4040901 - UFCH-W Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova laser photolysis * ArF * chemical vapour deposition Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0078229
Počet záznamů: 1