Počet záznamů: 1
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu
- 1.
SYSNO ASEP 0476548 Druh ASEP P - Patent Zařazení RIV P - Patent nebo jiný výsledek chráněný podle zvláštních právních předpisů Název Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu Překlad názvu A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Jan (FZU-D)
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCIDRok vydání 2017 Využití jiným subj. A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číslo pat.spisu 306799 Datum udělení 31.05.2017 Vlastník patentu Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Jazyk dok. cze - čeština Klíč. slova plasma deposition ; electrone-cyclotrone wave ; acoustic emission Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace Byl realizován způsob měření parametrů nízkotlakého plazmatu, které se používá pro různé aplikace jako je plazmatická depozice tenkých vrstev, plazmové leptání, plazmové iontové zdroje atd. a týká se způsobu měření s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.Měřící systém je součástí zařízení pro přípravu detekčních struktur akustické emise. Překlad anotace A method for measuring low-pressure plasma parameters used for various applications such as plasma thin film deposition, plasma etching, plasma ion sources, etc., has been realized and corresponds to the method of measurement using wave resonance of electrone-cyclotrone wave and device for realization of this method. The measurement system Is part of the device for the preparation of acoustic emission detection structures.
Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2017 Elektronická adresa https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Počet záznamů: 1