Počet záznamů: 1
Hybrid HiPIMS + controlled pulsed arc for deposition of hard coatings
- 1.
SYSNO ASEP 0562105 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Hybrid HiPIMS + controlled pulsed arc for deposition of hard coatings Tvůrce(i) Vyskočil, J. (CZ)
Mareš, P. (CZ)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Mates, Tomáš (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 5 Číslo článku 128765 Zdroj.dok. Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972
Roč. 446, Sep (2022)Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova HiPIMS ; arc discharge ; plasma ; sputtering ; cathodic arc evaporation Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Coating and films CEP FV30177 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000848099900003 EID SCOPUS 85135903369 DOI 10.1016/j.surfcoat.2022.128765 Anotace A new hybrid PVD deposition system was developed based on the combination of HiPIMS pulsed glow discharge and pulsed cathodic arc discharge (HiPIMS+ARC). The new hybrid HiPIMS+ARC discharge works with modified pulsed high power supplies which allow the initiation of pulsed arc discharge during HiPIMS pulse at the defined time. The initiated arc during the active part of the HiPIMS pulse is quenched at the end of this active part of the pulse when the magnetron cathode is disconnected from the negative voltage of the power supply. Several modifications with HiPIMS sequence of active pulses with arc were tested as well. The hybrid HiPIMS+ARC was applied for the deposition of ta-C thin films by use of a graphite magnetron target.
Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2023 Elektronická adresa https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128765
Počet záznamů: 1