Počet záznamů: 1
Advances in RF glow discharge optical emission spectrometry characterization of intrinsic and boron-doped diamond coatings
- 1.
SYSNO ASEP 0561905 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Advances in RF glow discharge optical emission spectrometry characterization of intrinsic and boron-doped diamond coatings Tvůrce(i) Sharma, Dhananjay K. (FZU-D) ORCID
Girao, A.V. (PT)
Chapon, P. (FR)
Neto, M.A. (PT)
Oliveira, F.J. (PT)
Silva, R.F. (PT)Celkový počet autorů 6 Zdroj.dok. ACS Applied Materials and Interfaces. - : American Chemical Society - ISSN 1944-8244
Roč. 14, č. 5 (2022), s. 7405-7416Poč.str. 12 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova GD-OES ; diamond ; boron doping ; XPS ; Rietveld refinement ; Raman spectroscopy ; HFCVD Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000757775400001 EID SCOPUS 85124156495 DOI 10.1021/acsami.1c20785 Anotace Accurate determination of the effective doping range within diamond thin films is important for fine-tuning of electrical conductivity. Nevertheless, it is not easily attainable by the commonly adopted techniques. In this work, pulsed RF glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES) combined with ultrafast sputtering (UFS) is applied for the first time to acquire elemental depth profiles of intrinsic diamond coatings and boron content bulk distribution in films. The GD-OES practical advances presented here enabled quick elemental profiling with noteworthy depth resolution and determination of the film interfaces. The erosion rates and layer thicknesses were measured using differential interferometric profiling (DIP), demonstrating a close correlation between the coating thickness and the carbon/hydrogen gas ratio. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2023 Elektronická adresa https://doi.org/10.1021/acsami.1c20785
Počet záznamů: 1