Počet záznamů: 1  

PtSe.sub.2./sub. and MoS.sub.2./sub. active layers for gas sensing at room temperature

  1. 1.
    SYSNO ASEP0559038
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevPtSe2 and MoS2 active layers for gas sensing at room temperature
    Tvůrce(i) Kočí, Michal (FZU-D) ORCID
    Izsák, Tibor (FZU-D) ORCID
    Vanko, G. (SK)
    Sojková, M. (SK)
    Husák, M. (CZ)
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů6
    Zdroj.dok.Proceedings of ADEPT - ADEPT 2022. - Žilina : University of Žilina, 2022 / Feiler M. ; Ziman M. ; Kováčová S. ; Kováč, jr. J. - ISBN 978-80-554-1884-1
    Rozsah strans. 117-120
    Poč.str.5 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Akce10th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies - ADEPT 2022
    Datum konání20.06.2022 - 24.06.2022
    Místo konáníTatranská Lomnica
    ZeměSK - Slovensko
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.SK - Slovensko
    Klíč. slovagas sensor ; PtSe2 ; MoS2 ; nanocrystalline diamond
    Vědní obor RIVJB - Senzory, čidla, měření a regulace
    Obor OECDMaterials engineering
    CEPLM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceGas sensors are nowadays an integral part of everyday life. New materials and fabrication processes allow the production of smaller, more accurate, cheaper, and more selective sensors. Here, gas sensing parameters of PtSe2, MoS2, and their heterostructures with nanocrystalline diamond (NCD) were measured at room temperature for oxidizing (NO2) and reducing (NH3) gases. The PtSe2 and MoS2 were prepared directly on SiO2/Si or NCD/SiO2/Si substrates by a simple selenization and a carbide-free one-zone sulfurization method. Advantageously, prepared heterostructure enhanced the gas sensing parameters and showed a notable electrical response to the examined gas types at room temperature.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2023
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.