Počet záznamů: 1  

Skleněná maska se sub mikronovými otvory

  1. 1.
    SYSNO ASEP0551708
    Druh ASEPO - Ostatní výsledky
    Zařazení RIVO - Ostatní
    NázevSkleněná maska se sub mikronovými otvory
    Překlad názvuGlass mask with sub micron pinholes
    Tvůrce(i) Brunn, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID
    Burda, Daniel (UPT-D)
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kopal, Jaroslav (UPT-D)
    Rok vydání2021
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovapinhole ; mask ; electron lithography
    Vědní obor RIVJJ - Ostatní materiály
    Obor OECDNano-processes (applications on nano-scale)
    CEPTN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    AnotaceBRUNN, Ondřej, BURDA, Daniel, KOLAŘÍK, Vladimír, KOPAL, Jaroslav. Skleněná maska se sub mikronovými otvory. 2021. Pomocí elektronové litografie je běžné realizovat ve vrstvě elektronového rezistu tloušťky několika stovek nanometrů otvory s průměrem pod mikrometr, při vysokém urychlovacím napětí i pod sto nanometrů. Otázkou je, do jaké neprůhledné vrstvy (materiál, tloušťka) se motiv rezistové masky přenáší. Obecně lze říct, že čím tenčí je neprůhledná vrstva, tím věrnější je přenos geometrie otvoru. Další omezení spočívá v dostupných leptacích technikách pro požadované materiály, z nichž je tvořena nepropustná vrstva.
    Překlad anotaceBRUNN, Ondřej, BURDA, Daniel, KOLAŘÍK, Vladimír, KOPAL, Jaroslav. Skleněná maska se sub mikronovými otvory. 2021. Using electron lithography, it is common to realize several thicknesses in the electron resist layer hundreds of nanometers holes with a diameter below micrometer, at high accelerating voltage even below one hundred nanometers. The question is what opaque layer (material, thickness) the motif of the resist mask transmits. In general, the thinner the opaque layer, the more faithful the geometry transfer hole. Another limitation lies in the available etching techniques for the required materials, of which an impermeable layer is formed.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2022
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.