Počet záznamů: 1  

In situ optical and electrical analysis of transient plasmas generated by ns-laser ablation for Ag nanostructured film production

  1. 1.
    SYSNO ASEP0546676
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevIn situ optical and electrical analysis of transient plasmas generated by ns-laser ablation for Ag nanostructured film production
    Tvůrce(i) Irimiciuc, Stefan (FZU-D) ORCID
    Chertopalov, Sergii (FZU-D) ORCID
    Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
    Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Craciun, V. (RO)
    Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů8
    Číslo článku110528
    Zdroj.dok.Vacuum. - : Elsevier - ISSN 0042-207X
    Roč. 193, Nov. (2021)
    Poč.str.10 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovaLangmuir probe ; optical emission spectroscopy ; perturbative probe ; plasma dynamics ; thickness profile ; Ag nanoparticles ; laser ablation
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPEF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA20-21069S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000702522400003
    EID SCOPUS85112483940
    DOI10.1016/j.vacuum.2021.110528
    AnotaceThe continuous effort for transitioning pulsed laser deposition (PLD) technique from an experimental tool into an industrial one can be sustained by the use of complex tools for in situ real-time monitoring of the deposition process. Langmuir Probe (LP) and optical emission spectroscopy (OES) measurements were used for plasma monitoring during PLD of silver films under various Ar pressure conditions. The LP measurements revealed a multi-structured distribution of the ions, which was strongly influenced by the increase of Ar pressure.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2022
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110528
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.