Počet záznamů: 1

Litografická maska

SYSNO ASEP	0544061
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Litografická maska
Překlad názvu	Lithographic mask
Tvůrce(i)	Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Meluzín, Petr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Burda, Daniel (UPT-D) Ondříšková, Martina (UPT-D) Lalinský, Ondřej (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horodyský, P. (CZ)
Rok vydání	2021
Int.kód	APL-2021-03
Technické parametry	Základními technickými parametry jsou perioda mřížky a procentuální pokrytí maskovací vrstvy.
Ekonomické parametry	Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Bc. Jana Chlumská, chlumska@isibrno.cz
Název vlastníka	Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
IČ vlastníka	68081731
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Požad. na licenč. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Číselná identifikace	APL-2021-03
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	electron beam lithography ; photomask
Vědní obor RIV	BH - Optika, masery a lasery
Obor OECD	Optics (including laser optics and quantum optics)
CEP	TN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Anotace	Pomocí elektronové litografie byla připravena šablona pro fotolitografickou přípravu tenké vodivé mřížky na nevodivé podložce s využitím v elektronové mikroskopii.
Překlad anotace	A photo mask was prepared using electron–beam lithography. The mask was used for the preparation of a thin conductive grid on a non-conductive substrate by photolithography.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2022

Počet záznamů: 1