Počet záznamů: 1  

Patterning of conductive nano-layers on garnet

  1. 1.
    SYSNO ASEP0543745
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevPatterning of conductive nano-layers on garnet
    Tvůrce(i) Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Lalinský, Ondřej (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.NANOCON 2020. 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings. - Ostrava : TANGER, 2021 - ISSN 2694-930X - ISBN 978-80-87294-98-7
    Rozsah stran(2021), s. 221-224
    Poč.str.4 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceInternational Conference NANOCON 2020 /12./
    Datum konání21.10.2020 - 23.10.2020
    Místo konáníBrno
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaElectron beam lithography ; nano-patterning ; yttrium aluminium garnet
    Vědní obor RIVJJ - Ostatní materiály
    Obor OECDNano-processes (applications on nano-scale)
    CEPTN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    UT WOS000664505500037
    EID SCOPUS85106021450
    DOI10.37904/nanocon.2020.3731
    AnotaceSynthetic crystalline materials of the garnet group are used as scintillators in scanning electron microscopy. If a thick conductive layer is applied on the garnet surface, slower electrons don't have enough energy to pass through this relatively thick conductive layer on the scintillator surface. Therefore, either thinner conductive layer or appropriate patterning of the thicker layer has to be used. Within this contribution we study the patterning process of such conductive nano-layer. Resolution of the patterning process is of high interest. Two approaches are compared: direct writing electron beam lithography and mask projection UV lithography.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2022
    Elektronická adresahttps://www.confer.cz/nanocon/2020/3731-patterning-of-conductive-nano-layer-on-garnet
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.