Počet záznamů: 1  

In situ anion-doped epitaxial strontium titanate films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0538768
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevIn situ anion-doped epitaxial strontium titanate films
    Tvůrce(i) Tyunina, Marina (FZU-D) ORCID
    Pacherová, Oliva (FZU-D) RID, ORCID
    Nepomniashchaia, Natalia (FZU-D) ORCID
    Vetokhina, Volha (FZU-D) ORCID
    Cichoň, Stanislav (FZU-D) RID, ORCID
    Kocourek, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů7
    Zdroj.dok.Physical Chemistry Chemical Physics. - : Royal Society of Chemistry - ISSN 1463-9076
    Roč. 22, č. 42 (2020), s. 24796-24800
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovaanion-doped ; in - situ ; epitaxial ; strontium titanate films
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPEF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA19-09671S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Způsob publikováníOpen access
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000585861500060
    EID SCOPUS85095799707
    DOI10.1039/d0cp03644g
    AnotaceMisfit strains arising from a film–substrate mismatch can induce novel phases and properties in the epitaxial films of perovskite oxides. Here we employ yet another effect, namely, strain-assisted formation of oxygen vacancies. We demonstrate the misfit-promoted presence of oxygen vacancies and related substitutional incorporation of anion dopants in the epitaxial films of archetypal perovskite oxide SrTiO3. Both the oxygen vacancies and hydrogen or nitrogen dopants are introduced in situ during the pulsed-laser deposition of the films using compressive substrates. The films exhibit peculiar chemical expansion and optical properties, which are consistent with substitutional anion doping.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2021
    Elektronická adresahttp://hdl.handle.net/11104/0316500
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.