Počet záznamů: 1

SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM

SYSNO ASEP	0536616
Druh ASEP	V - Výzkumná zpráva
Zařazení RIV	V – výzkumná zpráva
Název	SMV-2020-23: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Překlad názvu	SMV-2020-23: Development of test specimens for SEM
Tvůrce(i)	Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Meluzín, Petr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Pokorná, Zuzana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI}
Celkový počet autorů	7
Vyd. údaje	Brno: Tescan Brno s.r.o., 2020
Poč.str.	8 s.
Forma vydání	Tištěná - P
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vyd.	CZ - Česká republika
Klíč. slova	relief structure: e-beam lithography ; silicon etching ; microlithography
Vědní obor RIV	BH - Optika, masery a lasery
Obor OECD	Nano-processes (applications on nano-scale)
Další zdroj	neveřejné zdroje
Anotace	Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky opracování křemíku. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy.
Překlad anotace	Development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy. Micro-lithographic techniques for the recording of patterns in the silicon were used. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2021

Počet záznamů: 1