Počet záznamů: 1  

Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu

  1. 1.
    SYSNO ASEP0536218
    Druh ASEPL - Prototyp, funkční vzorek
    Zařazení RIVG - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
    Poddruh RIVFunkční vzorek
    NázevSpeciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu
    Překlad názvuSpecial photomask for image distortion measurement of projection optics
    Tvůrce(i) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Úlehla, L. (CZ)
    Moťka, L. (CZ)
    Celkový počet autorů6
    Rok vydání2020
    Int.kódAPL-2020-04
    Technické parametryMotiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
    Ekonomické parametryFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
    Název vlastníkaÚstav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    IČ vlastníka68081731
    Kat.výsl.dle nákl.A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Požad. na licenč. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Číselná identifikaceAPL-2020-04
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vlastníkaCZ - Česká republika
    Klíč. slovae–beam lithography ; reactive ion etching
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    CEPTN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    AnotaceSpeciálně navržená fotomaska vyrobená elektronovou litografií poskytuje cenný nástroj pro ultra přesné měření zkreslení obrazu v čočkové sestavě optické litografie. Maska je nezbytnou součástí nastavení měření projekční čočky.
    Překlad anotaceSpecially designed photomask produced by an electron lithography provides a valuable tool for ultra precision measurement of lithography lens image distortion. The mask is an essential part of a projection lens measuring setup.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2021
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.