Počet záznamů: 1

Hallův senzor

SYSNO ASEP	0534524
Druh ASEP	P - Patent
Zařazení RIV	P - Patent nebo jiný výsledek chráněný podle zvláštních právních předpisů
Název	Hallův senzor
Překlad názvu	Hall sensor
Tvůrce(i)	Ďuran, Ivan (UFP-V)_{RID, ORCID} Entler, Slavomír (UFP-V)_ORCID
Celkový počet autorů	2
Rok vydání	2020
Využití jiným subj.	P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
Lic. popl.	Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Číslo pat.spisu	308527
Datum udělení	16.09.2020
Vlastník patentu	Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
Kód vydavatele patentu	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Využití	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Jazyk dok.	cze - čeština
Klíč. slova	sensor ; tokamak
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Obor OECD	Fluids and plasma physics (including surface physics)
Institucionální podpora	UFP-V - RVO:61389021
Anotace	Hallův senzor je tvořen teplotně a radiačně odolným podkladovým substrátem, elektrickými spoji z vodivého materiálu, kontaktními plochami z vodivého materiálu, elektrickými kontaktními body z vodivého materiálu a citlivou vrstvou, jehož podstata spočívá v tom, že citlivá vrstva o síle 1 nanometru až 1 milimetru je tvořena z chemického prvku antimonu nebo jeho slitiny, přičemž obsah antimonu v citlivé vrstvě je vyšší než 90 %.
Překlad anotace	The Hall sensor consists of a temperature and radiation resistant substrate, electrical connections made of conductive material, contact surfaces made of conductive material, electrical contact points made of conductive material and a sensitive layer, the essence of which consists in that the sensitive layer with a thickness of 1 nanometer to 1 millimeter is formed of a chemical element of antimony or its alloy, the content of antimony in the sensitive layer being higher than 90%.
Pracoviště	Ústav fyziky plazmatu
Kontakt	Vladimíra Kebza, kebza@ipp.cas.cz, Tel.: 266 052 975
Rok sběru	2021
Elektronická adresa	https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308527.pdf

Počet záznamů: 1