Počet záznamů: 1
Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H.sub.2./sub.S gas mixture
- 1.
SYSNO ASEP 0533973 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Plasma diagnostics in reactive high-power impulse magnetron sputtering system working in Ar + H2S gas mixture Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kapran, Anna (FZU-D) ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Zanáška, Michal (FZU-D) ORCID
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Tichý, M. (CZ)Celkový počet autorů 8 Číslo článku 246 Zdroj.dok. Coatings. - : MDPI
Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-17Poč.str. 17 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova HiPIMS ; Langmuir probe ; optical emission spectrometry ; time-resolved probe measurements ; H2S ; electron density ; electron temperature Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Coating and films CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA19-00579S GA ČR - Grantová agentura ČR FV20580 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000524211800051 EID SCOPUS 85083055184 DOI 10.3390/coatings10030246 Anotace A reactive high-power impulse magnetron sputtering system (HiPIMS) working in Ar + H2S gas mixture was investigated as a source for the deposition of iron sulfide thin films. As a sputtering material, a pure Fe target was used. Plasma parameters in this system were investigated by a time-resolved Langmuir probe, radio-frequency (RF) ion flux probe, quartz crystal monitor modified for measurement of the ionized fraction of depositing particles, and by optical emission spectroscopy. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2021 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0312196
Počet záznamů: 1