Počet záznamů: 1  

Rippled Metallic-Nanowire/Graphene/Semiconductor Nanostack for a Gate-Tunable Ultrahigh-Performance Stretchable Phototransistor

  1. 1.
    SYSNO ASEP0533057
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevRippled Metallic-Nanowire/Graphene/Semiconductor Nanostack for a Gate-Tunable Ultrahigh-Performance Stretchable Phototransistor
    Tvůrce(i) Haider, Golam (UFCH-W) ORCID, RID
    Wang, Y. H. (CN)
    Farjana, Jaishmin Sonia (UFCH-W) ORCID, RID
    Chiang, Ch.-W. (CN)
    Frank, Otakar (UFCH-W) RID, ORCID
    Vejpravová, J. (CZ)
    Kalbáč, Martin (UFCH-W) RID, ORCID
    Chen, Y.-F. (CN)
    Číslo článku2000859
    Zdroj.dok.Advanced Optical Materials. - : Wiley - ISSN 2195-1071
    Roč. 8, č. 19 (2020)
    Poč.str.10 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovazinc-oxide nanostructures ; hybrid graphene ; strain sensors ; electronics ; photodetectors ; responsivity ; transistors ; skin ; mechanics ; pressure ; gate-tunable phototransistor ; single-layer graphene ; stretchable phototransistor ; ultrahigh responsivity ; ZnO nanoparticles
    Vědní obor RIVCF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
    Obor OECDPhysical chemistry
    CEPGX20-08633X GA ČR - Grantová agentura ČR
    EF16_027/0008355 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LTAUSA19001 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    EF16_026/0008382 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaUFCH-W - RVO:61388955
    UT WOS000550679500001
    EID SCOPUS85088297638
    DOI10.1002/adom.202000859
    AnotaceDespite being one of the most robust materials with intriguing optoelectronic properties, the practical use of single-layer graphene (SLG) in soft-electronic technologies is limited due to its poor native stretchability, low absorption coefficient, poor on/off ratio, etc. To circumvent these difficulties, here, a rippled gate-tunable ultrahigh responsivity nanostack phototransistor composed of SLG, semiconductor-nanoparticles (NPs), and metallic-nanowires (NWs) embedded in an elastic film is proposed. The unique electronic conductivity of SLG and high absorption strength of semiconductor-NPs produce an ultrahigh photocurrent gain. The metallic NWs serve as an excellent stretchable gate electrode. The ripple structured nanomaterials surmount their native stretchability, providing strength and electromechanical stability to the composite. Combining all these unique features, highly stretchable and ultrasensitive phototransistors are created, which can be stretched up to 30% with high repeatability maintaining a photoresponsivity, photocurrent gain, and detectivity of approximate to 10(6)A W-1, 10(7), and 10(13)Jones, respectively, which are comparable with the same class of rigid devices. In addition, the device can be turned-off by applying a suitable gate voltage, which is very convenient for photonic circuits. Moreover, the study can be extended to many other 2D systems, and therefore paves a crucial step for designing high-performance soft optoelectronic devices for practical applications.
    PracovištěÚstav fyzikální chemie J.Heyrovského
    KontaktMichaela Knapová, michaela.knapova@jh-inst.cas.cz, Tel.: 266 053 196
    Rok sběru2021
    Elektronická adresahttp://hdl.handle.net/11104/0311556
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.