Počet záznamů: 1
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system
- 1.
SYSNO ASEP 0531792 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Zlámal, M. (CZ)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Krýsa, J. (CZ)Celkový počet autorů 6 Číslo článku 232 Zdroj.dok. Coatings. - : MDPI
Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-14Poč.str. 14 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova photocathode film ; r-HiPIMS plus ECWR plasma ; r-HiPIMS plasma ; copper iron oxide ; photocurrent Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Materials engineering CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy FV20580 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu GA17-20008S GA ČR - Grantová agentura ČR Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000524211800037 EID SCOPUS 85083043387 DOI 10.3390/coatings10030232 Anotace A reactive high-power impulse magnetron sputtering (r-HiPIMS) and a reactive highpower impulse magnetron sputtering combined with electron cyclotron wave resonance plasma source (r-HiPIMS + ECWR) were used for the deposition of p-type CuFexOy thin films on glass with SnO2F conductive layer (FTO). Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2021 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0310408
Počet záznamů: 1