Počet záznamů: 1
Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes
- 1.
SYSNO ASEP 0525191 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Functional nano-structuring of thin silicon nitride membranes Tvůrce(i) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Řiháček, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID
Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 5 Zdroj.dok. Journal of Electrical Engineering - Elektrotechnický časopis. - : Slovenská technická univerzita v Bratislave - ISSN 1335-3632
Roč. 71, č. 2 (2020), s. 127-130Poč.str. 4 s. Forma vydání Online - E Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. SK - Slovensko Klíč. slova membrane ; nano optical device ; electron optics ; electron beam lithography ; silicon nitride ; reactive ion etching ; silicon etching ; microfabrication Vědní obor RIV JJ - Ostatní materiály Obor OECD Nano-processes (applications on nano-scale) CEP TN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Open access Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 UT WOS 000536287900009 EID SCOPUS 85085758550 DOI 10.2478/jee-2020-0019 Anotace The paper describes the development and production of a nano-optical device consisting of a nano-perforated layer of silicon nitride stretched in a single-crystal silicon frame using electron beam lithography (EBL) and reactive ion etching (RIE) techniques. Procedures for transferring nanostructures to the nitride layer are described, starting with the preparation of a metallic mask layer by physical vapor deposition (PVD), high-resolution pattern recording technique using EBL and the transfer of the motif into the functional layer using the RIE technique. Theoretical aspects are summarized including technological issues, achieved results and application potential of patterned silicon nitride membranes. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2021 Elektronická adresa https://content.sciendo.com/view/journals/jee/71/2/article-p127.xml
Počet záznamů: 1