Počet záznamů: 1  

Ion channelling effect and damage accumulation in yttria-stabilized zirconia implanted with Ag ions

  1. 1.
    SYSNO ASEP0524526
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevIon channelling effect and damage accumulation in yttria-stabilized zirconia implanted with Ag ions
    Tvůrce(i) Mikšová, Romana (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Malinský, Petr (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Harcuba, P. (CZ)
    Veselý, J. (CZ)
    Holý, V. (CZ)
    Kentsch, U. (DE)
    Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů7
    Zdroj.dok.Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. - : Elsevier - ISSN 0168-583X
    Roč. 474, č. 7 (2020), s. 29-34
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovaion-irradiation of crystals ; Yttria-stabilized zirconia ; RBS-channeling ; Ag particles
    Vědní obor RIVBG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače
    Obor OECDNuclear related engineering
    CEPEF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA18-03346S GA ČR - Grantová agentura ČR
    LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005
    UT WOS000531672400006
    EID SCOPUS85083821229
    DOI10.1016/j.nimb.2020.04.008
    AnotaceYttria stabilized zirconia (YSZ) is well known as a radiation-resistant material. In this study, we present results from 400 keV Ag+ implantations of the (1 0 0) YSZ single crystals to fluences ranging from 5 x 10(15) to 5 x 10(16) cm(-2). The damage depth profiling and accumulation were probed using Rutherford backscattering spectrometry in the channelling mode (RBS-C), Transmission electron microscopy (TEM) and X-ray diffraction (XRD). The axial channelling effect of 2 MeV He+ ions in the implanted YSZ was studied. RBS-C provides us with detailed information about the displaced atoms density depth profiles progressing into greater depths, especially in the case of higher fluence. TEM was utilized to characterize the microstructure evolution and damage accumulation in the buried layer after the implantation. At the highest fluence (5 x 10(16) cm(-2)), Ag depth profile in the depth of 30-130 nm was identified in TEM bright and dark field images as well as in the electron diffraction patterns. Ag depth profiles are in agreement with depth profiles determined by RBS which show maximum Ag concentration in the depth of 94 nm. The reason for the decrease of the deformation identified by XRD in the vertical direction is the defect formation.
    PracovištěÚstav jaderné fyziky
    KontaktMarkéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228
    Rok sběru2021
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1016/j.nimb.2020.04.008
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.