Počet záznamů: 1
Laser and ion beams graphene oxide reduction for microelectronic devices
- 1.
SYSNO ASEP 0523925 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Laser and ion beams graphene oxide reduction for microelectronic devices Tvůrce(i) Torrisi, L. (IT)
Havránek, Vladimír (UJF-V) RID, SAI, ORCID
Torrisi, Alfio (UJF-V) RID, ORCID
Cutroneo, Mariapompea (UJF-V) ORCID, RID, SAI
Silipigni, L. (IT)Celkový počet autorů 5 Zdroj.dok. Radiation Effects and Defects in Solids. - : Taylor & Francis - ISSN 1042-0150
Roč. 175, 3-4 (2020), s. 226-240Poč.str. 15 s. Forma vydání Tištěná - P Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova Graphene oxide ; ion beam reduction ; lithography ; laser ; ion beam ; electronic device Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP LM2015056 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy EF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA19-02482S GA ČR - Grantová agentura ČR Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora UJF-V - RVO:61389005 UT WOS 000522130000002 EID SCOPUS 85082713888 DOI 10.1080/10420150.2019.1701456 Anotace Reduced graphene oxide (rGO) is a two-dimensional material, which is attracting increasing attention due to its special properties. It can be obtained by laser or ion beam irradiations of pristine graphene oxide (GO). It shows high mechanical resistance, considerable electric and thermal conductivity. All these rGO characteristics together with the high number of molecular species that can be embedded between its layers, make graphene oxide a potential material for electronic sensors or efficient support on which conductive strips, condensers, and micrometric electronic devices can be designed. In particular, as it is described in this paper, it is possible to carry out high spatial resolution lithography in GO by using a focused laser or micro ion beam in order to design macro, micro, and submicron geometrical structures. The use of the reduced graphene oxide for the laser and ion beam fabrication of electrical resistances and capacitances is presented. Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 2021 Elektronická adresa https://doi.org/10.1080/10420150.2019.1701456
Počet záznamů: 1