Počet záznamů: 1

Surface imaging with UHV SLEEM and SEM LEEM

SYSNO ASEP	0522221
Druh ASEP	A - Abstrakt
Zařazení RIV	Záznam nebyl označen do RIV
Zařazení RIV	Není vybrán druh dokumentu
Název	Surface imaging with UHV SLEEM and SEM LEEM
Tvůrce(i)	Mikmeková, Šárka (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID} Jánský, P. (CZ) Kolařík, V. (CZ) Müllerová, Ilona (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID}
Celkový počet autorů	4
Zdroj.dok.	Microscopy and Microanalysis. - : Cambridge University Press - ISSN 1431-9276 Roč. 25, S2 (2019), s. 444-445
Poč.str.	2 s.
Forma vydání	Tištěná - P
Akce	Microscopy & Microanalysis 2019 Meeting
Datum konání	04.08.2019 - 08.08.2019
Místo konání	Portland
Země	US - Spojené státy americké
Typ akce	WRD
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	US - Spojené státy americké
Klíč. slova	surface imaging ; UHV SLEEM ; SEM LEEM
Vědní obor RIV	JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Obor OECD	Materials engineering
CEP	TE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
DOI	10.1017/S1431927619002952
Anotace	From fundamental studies in the materials science up to diagnostics of industrial materials a reliable method enabling characterization of surface properties with high sensitivity and high spatial resolution is urgently needed. Low energy electron microscopy method has proven itself eminently sensitive not only to the topography of the sample surface but also to its chemical composition, crystalline structure and electronic configuration.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2020

Počet záznamů: 1