Počet záznamů: 1
Laser-ablation-assisted SF6 decomposition for extensive and controlled fluorination of graphene
- 1.
SYSNO ASEP 0517285 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Laser-ablation-assisted SF6 decomposition for extensive and controlled fluorination of graphene Tvůrce(i) Plšek, Jan (UFCH-W) RID, ORCID
Drogowska, Karolina (UFCH-W) RID
Fridrichová, Michaela (UFCH-W) RID, ORCID, SAI
Vejpravová, J. (CZ)
Kalbáč, Martin (UFCH-W) RID, ORCIDZdroj.dok. Carbon. - : Elsevier - ISSN 0008-6223
Roč. 145, APR 2019 (2019), s. 419-425Poč.str. 7 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova oriented pyrolytic-graphite ; sulfur-doped graphene ; surface ; catalyst ; defects ; excimer Vědní obor RIV CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie Obor OECD Physical chemistry CEP GA18-20357S GA ČR - Grantová agentura ČR LTC18039 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LM2015073 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy EF16_013/0001821 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora UFCH-W - RVO:61388955 UT WOS 000466073000044 EID SCOPUS 85060351612 DOI 10.1016/j.carbon.2019.01.049 Anotace We present a safe, clean, convenient and easy-to-control method for extensive fluorination of graphene using laser-ablation-assisted decomposition of gaseous SF6 molecules. The decomposition process is based on irradiation of a silicon target using a Nd:YAG laser (532 nm) in an SF6 atmosphere. The reactive species produced in the plume above the silicon target are consequently responsible for fluorination of graphene placed in proximity to the plume. The applicability of the proposed method is demonstrated on fluorination of CVD-grown graphene on copper foil. Samples with different fluorination levels were evaluated using both X-ray photoelectron spectroscopy and Raman spectroscopy. The influence of the applied number of laser pulses on the nature of the CeF bonds, fluorine and sulphur concentrations, as well as graphene damage, is discussed. The method enables control of fluorine content by simple counting of laser pulses. We show that a fluorination level corresponding to a stoichiometry up to C1.4F can be achieved. The fluorination does not lead to the formation of Cu-F, in contrast to previously published approaches. (c) 2019 Published by Elsevier Ltd. Pracoviště Ústav fyzikální chemie J.Heyrovského Kontakt Michaela Knapová, michaela.knapova@jh-inst.cas.cz, Tel.: 266 053 196 Rok sběru 2020 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0302589
Počet záznamů: 1