Počet záznamů: 1
Photo-electrochemical properties of WO.sub.3./sub. and alpha-Fe.sub.2./sub.O.sub.3./sub. thin films
- 1.
SYSNO ASEP 0510813 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Photo-electrochemical properties of WO3 and alpha-Fe2O3 thin films Tvůrce(i) Krysa, J. (CZ)
Zlámal, M. (CZ)
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 4 Zdroj.dok. Chemical Engineering Transactions - ISSN 1974-9791
Roč. 41, SI (2014), s. 379-384Edice Chemical Engineering Transactions Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. IT - Itálie Klíč. slova sputtering ; HiPIMS ; thin films Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP GAP108/12/2104 GA ČR - Grantová agentura ČR Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000346539800064 EID SCOPUS 84908658681 DOI 10.3303/CET1441064 Anotace Iron oxide (α-Fe2O3) in hematite crystalline structure and tungsten trioxide have recently attracted much attention as possibly convenient materials to be used for hydrogen production via photoelectrochemical water splitting. Thius is due to their favorable properties such as band gaps between 2.0 - 2.2 eV (α-Fe2O3) and 2.5–2.8 eV (WO3) which allows absorbing of a substantial fraction of solar spectrum. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2020 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0301192
Počet záznamů: 1