Počet záznamů: 1  

In situ XPS study of vacuum annealed diamond and DLC thin films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0502226
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevIn situ XPS study of vacuum annealed diamond and DLC thin films
    Tvůrce(i) Artemenko, Anna (FZU-D) RID, ORCID
    Marton, M. (SK)
    Romanyuk, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Dragounová, Kateřina (FZU-D) ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.17th Joint Vacuum Conference - Book of abstracts. - Praha, 2018 / Mašek K. ; Jungwirthová I. ; Drbohlav J.
    S. 140-141
    Poč.str.2 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceJoint Vacuum Conference /17./
    Datum konání10.09.2018 - 14.09.2018
    Místo konáníOlomouc
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaNCD ; DLC ; in situ ; vacuum
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPGBP108/12/G108 GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceNanocrystalline diamond (NCD) and diamond-like carbon (DLC) films were proved to have unique surface properties useful for various applications, which are subjected to significant heating under operational conditions. In the present study, the thermal stability of H- or O-terminated NCD and DLC film surfaces were investigated. The as grown NCD and DLC surfaces were modified by RF plasma in appropriate gas mixtures. The H/O-NCD and DLC films were annealed up to 800°C in vacuum and analyzed in situ by XPS and ex situ by SEM and Raman spectroscopy. SEM and Raman measurements confirmed stability of annealed H/O-NCD samples. XPS analysis showed that oxygen concentration is reduced significantly (from 8 to 4 at.%) at 300°C and dropped almost to zero at 800 °C on O-NCD films. The O-DLC films have lost the oxygen slowly (from 13 to 6 at.% at 300°C). The vacuum annealing above 550°C resulted in both H- and O-DLC film delamination. This work was supported by the project GACR P108/12/G108.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2019
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.