Počet záznamů: 1  

Zařízení pro pulzní plazmatické povlakování vnitřních povrchů dutých dielektrických trubic

  1. 1.
    SYSNO ASEP0500946
    Druh ASEPP1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Zařazení RIVF - Výsledky s právní ochranou (užitný vzor, průmyslový vzor)
    Poddruh RIVUžitný vzor
    NázevZařízení pro pulzní plazmatické povlakování vnitřních povrchů dutých dielektrických trubic
    Překlad názvuA device for pulsed plasma coating of internal surfaces of hollow dielectric tubes
    Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
    Klinger, Miloslav (FZU-D) ORCID
    Rok vydání2018
    Vlastník vzoruFyzikální ústav AV ČR, v .v. i.
    SídloPraha 8
    Datum udělení vzoru25.07.2018
    Číslo vzoru31918
    Lic. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    VyužitíA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Využití jiným subjektemA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Kód vydavatele patentuCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Jazyk dok.cze - čeština
    Klíč. slovahollow cathode ; plasma ; thin films ; RF plasma ; discharge
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    CEPTG02010056 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceNové technické řešení umožňuje plazmatické nanášení tenkých vrstev do dlouhé vodivé či elektricky nevodivé trubice.
    Překlad anotaceThe new technical approach provides possibility on thin film deposition into long conductive and electrically non-conductive films
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2019
    Elektronická adresahttps://isdv.upv.cz/webapp/resdb.print_detail.det?pspis=PUV/34923&plang=CS
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.