Počet záznamů: 1  

Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy

  1. 1.
    SYSNO ASEP0499948
    Druh ASEPL - Prototyp, funkční vzorek
    Zařazení RIVG - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
    Poddruh RIVFunkční vzorek
    NázevReaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
    Překlad názvuReactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films
    Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
    Rok vydání2018
    Int.kódFVG1/FZU/2018
    Technické parametryMezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
    Ekonomické parametryLaboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Název vlastníkaFyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Oddělení optických a biofyzikálních systémů
    IČ vlastníka68378271
    Kat.výsl.dle nákl.A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Požad. na licenč. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Číselná identifikaceFVG1/FZU/2018
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vlastníkaCZ - Česká republika
    Klíč. slovasputtering ; thin films ; plasma ; deposition ; hollow cathode
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    CEPFV20580 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceHiPIMS reaktivní systém se dvěma magnetrony a ICP RF rezonanční elektrodou byl realizován pro depozice optických polovodivých vrstev na plošné optické struktury
    Překlad anotaceHiPIMS reactive system with two magnetrons and ICP RF resonance electrode was realized for the deposition of optical semiconductor thin films on the surface optical structures.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2021
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.