Počet záznamů: 1
Enhanced diamond nucleation via photoresist polymers combined with nanodiamond seeding layers
- 1.
SYSNO ASEP 0496872 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV Záznam nebyl označen do RIV Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název Enhanced diamond nucleation via photoresist polymers combined with nanodiamond seeding layers Tvůrce(i) Szabó, Ondrej (FZU-D) ORCID, RID
Ižák, Tibor (FZU-D) RID
Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 4 Zdroj.dok. NANOCON 2017 - Book of Abstracts. - Ostrava : Tanger Ltd, 2017 / Shrbená J. - ISBN 978-80-87294-78-9
S. 89-90Poč.str. 2 s. Akce NANOCON 2017. International Conference on Nanomaterials - Research & Application /9./ Datum konání 18.10.2017 - 20.10.2017 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova diamond film ; nucleation ; polymers ; Raman ; SEM Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP GA17-19968S GA ČR - Grantová agentura ČR 7AMB17AT036 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace Here we studied the influence of two different photoresist polymers (S1802 and ma1215 spin-coated at thicknesses 100 nm and 1.5 m, respectively) and their multi-layered combinations with nanodiamond seeding layer(s) on the nucleation and growth of diamond thin films. Before the diamond CVD growth the atomically flat (100) silicon substrates were treated in different ways employing i) only nanodiamond seeding layer (NL), ii) only photoresist layer (PL), iii) nanodiamond/photoresist layer (NL/PL) and other layer combinations: iv) PL/NL, v) NL/PL/NL, vi) PL/NL/PL. All the samples were loaded to the microwave CVD system to grow the diamond thin films at low temperature (300 °C) in H2/CH4/CO2 gas mixture for 3 and 9 hours. The film morphology and its quality were evaluated by scanning electron microscopy and Raman measurements. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2019
Počet záznamů: 1