Počet záznamů: 1

Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu

SYSNO ASEP	0496767
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu
Překlad názvu	Apparatus for detecting of particles in coated resist layer
Tvůrce(i)	Drozd, Michal (UPT-D) Knápek, Alexandr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Král, Stanislav (UPT-D)_{RID, SAI} Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Pavelka, Jan (UPT-D)_{RID, SAI} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Meluzín, Petr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI}
Celkový počet autorů	10
Rok vydání	2018
Int.kód	APL-2018-05
Technické parametry	Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Ekonomické parametry	Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
Název vlastníka	Ústav přístrojové techniky AV Ř, v. v. i.
IČ vlastníka	68081731
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Požad. na licenč. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Číselná identifikace	APL-2018-05
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	e–beam lithography ; quality control ; image processing
Vědní obor RIV	JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Obor OECD	Automation and control systems
CEP	TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
	LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Anotace	Funkční vzorek WaferScan je rastrovací zařízení, umožňující skenovat křemíkovou podložku (wafer) optickou kamerou a analýzou obrazu v počítači zjistit polohu a velikost defektů a prachových částic v rezistu naneseném na waferu. Celé zařízení se skládá ze dvou pohyblivých os x a y, které umožňují pohyb kamery, a příslušené elektroniky. Součástí je také software k ovládání zařízení a zpracování obrazu.
Překlad anotace	Functional sample WaferScan is a scanning device that allows to scan a silicon wafer coated with a resist layer. Wafer surface is scanned with an optical camera and the image is analyzed on the computer to determine the location and size of the defects and dust particles in the resist layer. The entire device consists of two moving axes x and y (that allow the movement of the camera) and the control electronic circuitry. Software to control the scanning device and the image processing tool are also included.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2019

Počet záznamů: 1