Počet záznamů: 1
Towards high quality ITO coatings: the impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges
- 1.
SYSNO ASEP 0489659 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Towards high quality ITO coatings: the impact of nitrogen admixture in HiPIMS discharges Tvůrce(i) Straňák, V. (CZ)
Bogdanowicz, R. (PL)
Sezemsky, P. (CZ)
Wulff, H. (DE)
Kruth, A. (DE)
Smietana, M. (FR)
Kratochvíl, J. (CZ)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 9 Zdroj.dok. Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972
Roč. 335, Feb (2018), s. 126-133Poč.str. 8 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova film properties ; HiPIMS ; ITO ; plasma deposition Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000424720800014 EID SCOPUS 85037984029 DOI 10.1016/j.surfcoat.2017.12.030 Anotace The paper reports controlled deposition of optically transparent and electrically conductive ITO films prepared by a combination of rf (13.56 MHz) and High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) systems without any post deposition thermal treatment/annealing. It is shown that (i) reactive admixture of N-2 gas to the process and (ii) pressure in the deposition chamber enable to optimize optical properties of ITO films. Furthermore, the changes of electrical resistivity were observed, too. The variation of these ITO properties is attributed to change of crystalline structure measured by XRD methods. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2019
Počet záznamů: 1