Počet záznamů: 1
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
- 1.
SYSNO ASEP 0486974 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm Překlad názvu Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Pultar, M. (CZ)
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Poruba, Aleš (FZU-D) RID
Vaněk, J. (CZ)
Pečiva, L. (CZ)
Lukašík, P. (CZ)
Dolák, J. (CZ)Rok vydání 2017 Int.kód FV1/FZU/2017 Technické parametry Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Ekonomické parametry Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč. Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68378271 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Využ. jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Požad. na licenč. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova Microwave surfatron ; thin films ; low-temperature plasma ; ALD ; deposition ; plasma diagnostics Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP TF03000025 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.
Překlad anotace As part of the TACR project, we have developed and implemented a microwave plasma jet source called surfatron suitable for use in the ALD deposition system. The measured plasma parameters showed that the surfatron is capable of generating the low-temperature plasma with parameters exhibiting better than 10% inhomogeneity in vicinity of substrate.
Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2018
Počet záznamů: 1