Počet záznamů: 1  

Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0485935
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevApplication of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films
    Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Straňák, V. (CZ)
    Klusoň, J. (CZ)
    Tichý, M. (CZ)
    Klusoň, Petr (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů8
    Zdroj.dok.XIXth Symposium on Physics of Switching Arc. - Brno : Brno University of Technology, 2011 / Aubrecht V. - ISBN 978-163266006-0
    Rozsah strans. 47-56
    Poč.str.10 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceXIXth Symposium on Physics of Switching Arc
    Datum konání05.09.2011 - 11.09.2011
    Místo konáníBrno
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaplasma jet ; TiO2 thin film ; photocatalytic ; XRD ; IVDF ; RFA
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    Vědní obor RIV – spolupráceÚstav chemických procesů - Organická chemie
    CEPGAP205/11/0386 GA ČR - Grantová agentura ČR
    KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UCHP-M - RVO:67985858
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000393239500005
    EID SCOPUS84901757358
    AnotaceThe low pressure DC pulsed or RF pulsed modulated hollow cathode plasma jets worked on the principle of the reactive sputtering of the hollow cathode usually in the gas mixture of Ar + O2 or N2. The DC pulsed power supplier was applied with combination of the RF source for the plasma jets generation. It was clearly demonstrated that properties of TiO2 and TiO2:N films significantly depended on the plasma parameters. First, the produced films were characterized with the aid of a number of methods (AFM, SEM, XRD, Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), UV–vis spectrometry). Further, the films were judged in terms of their specific optical functionality to generate photocurrents upon being illuminated with spectrally well defined narrow light beams. The parameters of the chemically reactive plasma in the jets were determined using the time-resolved Langmuir probe system. The measurement of the ion energy distribution function was performed by means of the RFA.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2018
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.