Počet záznamů: 1

Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent

SYSNO ASEP	0485925
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Plazmová aparatura pro povlakování dutých komponent
Překlad názvu	Plasmatic system for coatings of hollow substrates
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Tvarog, Drahoslav (FZU-D)_ORCID Kšírová, Petra (FZU-D)_{RID, ORCID} Klinger, Miloslav (FZU-D)_ORCID
Rok vydání	2017
Int.kód	FVG1/FZU/2017
Technické parametry	Generace plazmatu: dutá katoda, druh výboje: RF/DC/DC-pulzní, výkon v plazmatu: max 150 W, průtok argonu: 50-250 sccm, pracovní tlak: 1-20 Pa. Délka povlakované trubky: max 200 mm.
Ekonomické parametry	Plazmová depoziční aparatura byla vyvinuta v rámci projektu GAMA TAČR a bude nabídnuta průmyslovým partnerům jako technologie pro povlakování strojních komponent.
Název vlastníka	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
IČ vlastníka	68378271
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Využ. jiným subjektem	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požad. na licenč. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	sputtering ; thin films ; plasma ; deposition ; hollow cathode
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Obor OECD	Fluids and plasma physics (including surface physics)
CEP	TG02010056 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	V rámci řešení projektu TAČR GAMA jsme vyvinuli plasmatický systém pro depozici tenkých vrstev do dutých substrátů.
Překlad anotace	Plasmatic deposition system was developed as a result of TACR project for deposition of thin films into hollow substrates.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2018

Počet záznamů: 1