Počet záznamů: 1

SMV-2017-23: Optimalizace nanolitografie

SYSNO ASEP	0483025
Druh ASEP	V - Výzkumná zpráva
Zařazení RIV	V – výzkumná zpráva
Název	SMV-2017-23: Optimalizace nanolitografie
Překlad názvu	SMV-2017-23: Optimization of nanolitography
Tvůrce(i)	Jákl, Petr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Šerý, Mojmír (UPT-D)_{RID, SAI}
Celkový počet autorů	2
Vyd. údaje	Brno: Ústav experimentálnej fyziky SAV, 2017
Poč.str.	2 s.
Forma vydání	Tištěná - P
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vyd.	CZ - Česká republika
Klíč. slova	two photon photopolymerization ; laser beam shaping
Vědní obor RIV	BH - Optika, masery a lasery
Obor OECD	Optics (including laser optics and quantum optics)
Další zdroj	neveřejné zdroje
Anotace	Zlepšení rozlišení dvoufotonové fotopolymerace pomocí odstranění optických aberací a optimalizace ohniska laserového svazku.
Překlad anotace	Two-photon photopolymerization technique was improved by decreasing optical aberrations and optimization of laser beam.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2018

Počet záznamů: 1