Počet záznamů: 1
Plasma cleaning effect on the stability of the Epon resin sections
- 1.
SYSNO ASEP 0465340 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Plasma cleaning effect on the stability of the Epon resin sections Tvůrce(i) Skoupý, Radim (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krzyžánek, Vladislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Nebesářová, Jana (BC-A) RID, ORCIDCelkový počet autorů 3 Zdroj.dok. EMC2016. The 16th European Microscopy Congress. Proceedings. - Oxford : Wiley, 2016 - ISBN 9783527808465 Rozsah stran s. 597-598 Poč.str. 2 s. Forma vydání Online - E Akce EMC2016. European Microscopy Congress /16./ Datum konání 28.08.2016 - 02.09.2016 Místo konání Lyon Země FR - Francie Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova STEM ; plasma cleaning Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika Vědní obor RIV – spolupráce Biologické centrum (od r. 2006) - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP GA14-20012S GA ČR - Grantová agentura ČR TE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 ; BC-A - RVO:60077344 DOI 10.1002/9783527808465.EMC2016.5995 Anotace Low voltage TEM and STEM (transmission and scanning transmission electron microscope) can be regarded as the method of choice for many structural studies of very thin biological samples like ultrathin sections, viruses etc. Unfortunately, the specimen contamination increases with electron flux and therefore a specimen cleanliness is an important factor in obtaining of valuable data especially in STEM. An important parameter for imaging of those samples is a sensitivity of the sample to degradation by electron beam. The mass loss indicates a degree of the radiation damage. We investigated the mass loss of embedding medium (Epon resin of middle hardness) in combination of different thickness of the sections (60 nm and 150 nm) with using or not-using of plasma cleaning which is often used to removing of contamination from the sample. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2017 Elektronická adresa http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/9783527808465.EMC2016.5995/pdf
Počet záznamů: 1