Počet záznamů: 1
Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace a způsob výroby sendvičové struktury pro tento zdroj
- 1.
SYSNO ASEP 0464519 Druh ASEP P - Patent Zařazení RIV P - Patent nebo jiný výsledek chráněný podle zvláštních právních předpisů Název Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace a způsob výroby sendvičové struktury pro tento zdroj Překlad názvu Low-temperature plasma source with possibility of both contact and contactless application and process for preparing sandwich structure for such a source Tvůrce(i) Churpita, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
Zablotskyy, Vitaliy A. (FZU-D) RID
Syková, Eva (UEM-P) RID
Kubinová, Šárka (UEM-P) RID, ORCIDRok vydání 2016 Využití jiným subj. A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číslo pat.spisu 306217 Datum udělení 24.08.2016 Vlastník patentu Fyzikální ústav AV ČR, v.v. i. - Ústav experimentální medicíny AV ČR, v.v. i. Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Jazyk dok. cze - čeština Klíč. slova atmospheric ; plasma ; biomedical applications Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Vědní obor RIV – spolupráce Ústav experimentální medicíny - Biofyzika CEP TA04010449 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UEM-P - RVO:68378041 Anotace Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích, obsahující zdroj (9) střídavého vysokého napětí a duté izolační těleso (1), do jehož vnitřního prostoru (11) je zaústěn přívod pracovního plynu (GAS) a je v něm umístěna sendvičová struktura obsahující vnitřní budicí elektrodu (5) připojenou na zdroj (9) střídavého vysokého napětí, kde podstata vynálezu spočívá v tom, že sendvičová struktura uložená ve vnitřním prostoru (11) sestává ze vzájemně nad sebou uložených vrstev, nevodivé horní porézní membrány (4), vnitřní budicí elektrody (5), nevodivé spodní porézní membrány (6) a vnější zemnicí elektrody (7), přičemž nosná část sendvičové struktury obsahující horní porézní membránu (4), vnitřní budicí elektrodu (5) a spodní porézní membránu (6) je vytvořena jako jeden pevný celek. Překlad anotace The present invention relates to a low-temperature plasma source, intended particularly for use in medicinal bioapplications, comprising a high-voltage source (9) of alternating current and a hollow insulating body (1), in the internal space (11) of which, there is a processing gas inlet (GAS) and in which, there is disposed a sandwich structure comprising an internal driving electrode (5) connected to the high-voltage source (9) of alternating current, wherein the invention is characterized in that the sandwich structure disposed in the internal space (11) consists of layers of layers arranged one above the other of a non-conducting upper porous membrane (4), the internal driving electrode (5), a non-conducting lower porous membrane (6) and an external ground electrode (7), whereby the bearing portion of said sandwich structure comprising the upper porous membrane (4), the internal driving electrode (5) and the lower porous membrane (6) is made integral. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2017 Elektronická adresa https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10150276&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Počet záznamů: 1