Počet záznamů: 1
Comparison of SIMS and RBS for depth profiling of silica glasses implanted with metal ions
- 1.
SYSNO ASEP 0464368 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Comparison of SIMS and RBS for depth profiling of silica glasses implanted with metal ions Tvůrce(i) Lorinčík, Jan (URE-Y)
Veselá, D. (CZ)
Vytykáčová, S. (CZ)
Švecová, B. (CZ)
Nekvindová, P. (CZ)
Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Mikšová, Romana (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Malinský, Petr (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Boettger, R. (DE)Celkový počet autorů 9 Číslo článku 03H129 Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science & Technology B. - : American Institute of Physics - ISSN 1071-1023
Roč. 34, č. 3 (2016)Poč.str. 4 s. Forma vydání Tištěná - P Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova Nanoparticles ; Spectroscopy ; Backscattering Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika Vědní obor RIV – spolupráce Ústav jaderné fyziky - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače CEP GA15-01602S GA ČR - Grantová agentura ČR LM2011019 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora URE-Y - RVO:67985882 ; UJF-V - RVO:61389005 UT WOS 000377673400029 EID SCOPUS 84962224659 DOI 10.1116/1.4944525 Anotace Ion implantation of metal ions, followed by annealing, can be used for the formation of buried layers of metal nanoparticles in glasses. Thus, photonic structures with nonlinear optical properties can be formed. In this study, three samples of silica glasses were implanted with Cu+, Ag+, or Au+ ions under the same conditions (energy 330 keV and fluence 1 x 10(16) ions/cm(2)), and compared to three identical silica glass samples that were subsequently coimplanted with oxygen at the same depth. All the implanted glasses were annealed at 600 degrees C for 1 h, which leads to the formation of metal nanoparticles. The depth profiles of Cu, Ag, and Au were measured by Rutherford backscattering and by secondary ion mass spectrometry and the results are compared and discussed Pracoviště Ústav fotoniky a elektroniky Kontakt Petr Vacek, vacek@ufe.cz, Tel.: 266 773 413, 266 773 438, 266 773 488 Rok sběru 2017
Počet záznamů: 1