Počet záznamů: 1
Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů
- 1.
SYSNO ASEP 0459339 Druh ASEP P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor Zařazení RIV F - Výsledky s právní ochranou (užitný vzor, průmyslový vzor) Poddruh RIV Užitný vzor Název Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů Překlad názvu Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations Tvůrce(i) Churpita, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
Syková, Eva (UEM-P) RID
Kubinová, Šárka (FZU-D) RID, ORCIDRok vydání 2016 Vlastník vzoru Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - Ústav experimentální medicíny AV ČR, v. v. i. Sídlo Praha 8 - Praha 4 Datum udělení vzoru 08.03.2016 Číslo vzoru 29236 Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Využití jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Jazyk dok. cze - čeština Klíč. slova low-temperature plasma source ; plasma generation ; various voluminous formations Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP TA04010449 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UEM-P - RVO:68378041 Anotace Zařízení je vhodné především k úpravě povrchu živé tkáně pro různé medicínské aplikace, jako je dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie, stomatologie a kosmetika, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí. Hlavní výhodou tohoto systému je možnost jeho využití při ošetření těžko přístupných dutin.
Překlad anotace Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations, for a variety of biomedical applications. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2017 Elektronická adresa https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029236.pdf
Počet záznamů: 1