Počet záznamů: 1  

Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace

  1. 1.
    SYSNO ASEP0459337
    Druh ASEPP1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
    Zařazení RIVF - Výsledky s právní ochranou (užitný vzor, průmyslový vzor)
    Poddruh RIVUžitný vzor
    NázevZdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace
    Překlad názvuLow-temperature plasma source with possibility of contact as well as contactless application
    Tvůrce(i) Churpita, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Zablotskyy, Vitaliy A. (FZU-D) RID
    Syková, Eva (UEM-P) RID
    Kubinová, Šárka (FZU-D) RID, ORCID
    Rok vydání2016
    Vlastník vzoruFyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - Ústav experimentální medicíny AV ČR, v. v. i.
    SídloPraha 8 - Praha 4
    Datum udělení vzoru16.02.2016
    Číslo vzoru29159
    Lic. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    VyužitíA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Využití jiným subjektemA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Kód vydavatele patentuCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Jazyk dok.cze - čeština
    Klíč. slovalow-temperature plasma ; possibility of contact as well as contactless application
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    CEPTA04010449 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UEM-P - RVO:68378041
    AnotaceZařízení je vhodné především k úpravě povrchu živé tkáně pro různé medicínské aplikace, jako je dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie, stomatologie a kosmetika, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí.
    Překlad anotaceLow-temperature plasma source for surface treatment of living tissue for medical purposes, particularly for deactivation of bacteria.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2017
    Elektronická adresahttps://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029159.pdf
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.