Počet záznamů: 1
Exposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam
- 1.
SYSNO ASEP 0437838 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Exposure Time Comparison between E-beam Writer with Gaussian Beam and Variable Shaped Beam Tvůrce(i) Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 7 Zdroj.dok. NANOCON 2014. 6th International conference proceedings. - Ostrava : TANGER, 2014 - ISBN 978-80-87294-55-0 Poč.str. 5 s. Forma vydání Nosič - C Akce NANOCON 2014. International Conference /6./ Datum konání 05.11.2014-07.11.2014 Místo konání Brno Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova e-beam writer ; Gaussian beam ; variable shaped beam Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika CEP LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy TE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 UT WOS 000350636300042 Anotace One of the main goals in e-beam lithography is to increase exposure speed to achieve higher throughput. There are basically two types of electron-beam writers, shaped beam lithography systems and Gaussian beam lithography systems. The exposure time of both e-beam writers consist in essence of beam-on time, deflection system stabilization time and stage movement time. Exposure time testing was carried out on two types of patterns. There were completely filled in areas, binary period gratings (ratio 1:1 between exposed and unexposed areas), and multileveled structures (computer generated holograms). Exposures data was prepared according to standard technology (PMMA resist, exposure dose, non-alcoholic based developer) for both systems. The result of experiment shows that variable shaped beam system has advantage in multileveled structures while the Gaussian beam system is more suitable for gratings type of pattern. It was proved that combination of both systems has its use to increase exposures throughput. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2015
Počet záznamů: 1