Počet záznamů: 1  

AlGaN/GaN micromembranes with diamond coating for high electron mobility transistors operated at high temperatures

  1. 1.
    SYSNO ASEP0436952
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevAlGaN/GaN micromembranes with diamond coating for high electron mobility transistors operated at high temperatures
    Tvůrce(i) Vanko, G. (SK)
    Vojs, M. (SK)
    Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Choleva, P. (AT)
    Marton, M. (SK)
    Rýger, I. (SK)
    Dzuba, J. (SK)
    Lalinský, T. (SK)
    Zdroj.dok.ASDAM 2014- Conference Proceedings: The 10th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. - Bratislava : Slovak University of Technology, 2014 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinsky E. - ISBN 978-1-4799-5474-2
    Rozsah strans. 263-266
    Poč.str.4 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceInternational Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems /10./
    Datum konání20.10.2014-22.10.2014
    Místo konáníSmolenice
    ZeměSK - Slovensko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.SK - Slovensko
    Klíč. slovaGaN membranes ; diamond films ; thermal management ; MWCVD ; SEM
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGP14-16549P GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceIn this work, we present an application of NCD layers as backside cooling for AlGaN/GaN heterostructures grown on Si substrates. In this case, diamond nucleation is the most limiting technological step due to low mechanical stability of GaN membranes. We observed that standard nucleation techniques (ultrasonic seeding or bias enhanced nucleation) caused cracking of the membranes or not appropriate nucleation efficiency in the Z-depth of structures. Therefore we implemented PVA polymer consisting of diamond powder as seeding composite which resulted in a successful growth of diamond thin film.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2015
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.