Počet záznamů: 1  

Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami

  1. 1.
    SYSNO ASEP0434553
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevFázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami
    Překlad názvuPhase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings
    Tvůrce(i) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Urbánek, Michal (UPT-D) RID
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
    Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAI
    Celkový počet autorů8
    Zdroj.dok.Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014 - ISBN 978-80-87441-13-8
    Rozsah strans. 31-32
    Poč.str.2 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceLaser54
    Datum konání29.10.2014-31.10.2014
    Místo konáníTřešť
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaelectron beam lithography ; industrial holography
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEPLO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    TE01020233 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    TE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    AnotaceBraggovská vláknová mřížka je založena na principu lokální změny indexu lomu ve vlákně optického vlákna. Má širokou aplikační oblast, používá se např. pro různé typy filtrů v komunikacích, může se též použít v oblasti snímačů mechanického namáhání. Pro přípravu tohoto typu mřížek lze použít různé technologie. Například, index lomu je možné modifikovat přímo při výrobě optického vlákna. Dále, mřížka může být exponována bod po bodu laserovým svazkem. Nejefektivnějším způsobem je expozice přes fázovou masku, neboť jednu masku lze použít pro výrobu stovek mřížek (i když kvalita masky se při expozicích postupně snižuje, ačkoliv je připravena v křemenném skle). Tento příspěvek se zabývá různými přístupy pro přípravu fázových masek z pohledu vlivu na kvalitu exponovaných Braggovských mřížek. Mřížková fázová maska je definována zejména dvěma parametry; periodou a hloubkou (předpokládáme střídu 1:1 mezi výstupky a prohlubněmi mřížky).
    Překlad anotaceFiber Bragg grating is based on the local changes of refractive index in the core of the optical fiber. It has a wide application area, e.g. different types of filters in communications, and it may also be used in sensing of mechanical stresses. One can use different technologies to prepare this type of grating, e.g. the refractive index can be modified directly during production of an optical fiber. Further, the grating may be exposed point by point by a laser beam. The most effective way is an exposure through a phase mask, since a mask may be used for the production of hundreds of grids. This paper discusses different approaches for the preparation of phase masks in terms of impact on the quality of the exposed Bragg grating. The lattice phase mask is defined mainly by two parameters; period and depth.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2015
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.