Počet záznamů: 1

Surface wave plasma – attractive solution for industrial uses

SYSNO ASEP	0434339
Druh ASEP	C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
Zařazení RIV	D - Článek ve sborníku
Název	Surface wave plasma – attractive solution for industrial uses
Tvůrce(i)	Davydova, Marina (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Rezek, Ondřej (FZU-D) Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Material analysis in vacuum. - Bratislava : Slovenská vákuová spoločnosť, 2014 / Michalka M. ; Vincze A. ; Veselý M. - ISBN 978-80-971179-4-8
Rozsah stran	s. 129-133
Poč.str.	5 s.
Forma vydání	Tištěná - P
Akce	School of Vacuum Technology /17./
Datum konání	02.10.2014-05.10.2014
Místo konání	Štrbské Pleso
Země	SK - Slovensko
Typ akce	EUR
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	SK - Slovensko
Klíč. slova	surface wave plasma ; cold plasma ; surface treatment ; diamond films
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEP	TA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	This work presents the low temperature oxygen and hydrogen termination of diamond films by surface wave discharge reactor. The influence of the low temperature plasma treatment and process time on the wettability and/ or surface resistivity of the diamond films have been studied. The results indicate that a temperature as low as 250°C is sufficient to induce hydrogen-terminated conductive surface of the order of 108 Ω. An increase in substrate temperature up to 400°C results in decrease of resistivity up to 5×106 Ω.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2015

Počet záznamů: 1