Počet záznamů: 1  

Nanodiamond

  1. 1.
    SYSNO ASEP0432021
    Druh ASEPM - Kapitola v monografii
    Zařazení RIVC - Kapitola v knize
    NázevLow temperature diamond growth
    Tvůrce(i) Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Babchenko, Oleg (FZU-D) RID, ORCID
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Kozak, Halyna (FZU-D) RID, ORCID
    Verveniotis, Elisseos (FZU-D) RID
    Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Nanodiamond. - Cambridge : The Royal Society of Chemistry, 2014 / Williams O.A. - ISBN 978-1-84973-639-8
    Rozsah strans. 290-342
    Poč.str.53 s.
    Poč.str.knihy530
    Forma vydáníTištěná - P
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovadiamond film ; pulsed linear antenna MWCVD ; low temperature deposition ; temperature sensitive substrates
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGBP108/12/G108 GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    DOI10.1039/9781849737616-00290
    AnotaceThe present chapter focuses on the low temperature diamond growth from technological and practical point of view. The LTDG process is divided in two strategies based i) on the modification of the deposition systems and ii) on the change of gas chemistry. State of the art of each strategy and involved fundamental growth processes are reviewed. Among the discussed diamond growth processes, microwave surface wave plasma in linear antenna configuration with oxygen containing gas mixture is shown as the most promising process for the LTDG over large areas with high optical and electronic grade material. The growth phenomena observed in the linear antenna microwave plasma provide a simple way to control nano- and poly-crystalline diamond character. A practical comparison between focused and linear antenna microwave plasma is presented on several key studies which utilize the LTDG on amorphous silicon, glass, germanium and optical elements used for IR spectroscopy.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2015
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.