Počet záznamů: 1

Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému

SYSNO ASEP	0427270
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému
Překlad názvu	ZnO thin films prepared by multi SWD plasma jet system
Tvůrce(i)	Kohout, Michal (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Š. (CZ) Kšírová, Petra (FZU-D)_{RID, ORCID} Brunclíková, Michaela (FZU-D)_RID Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Jemná mechanika a optika. - : Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - ISSN 0447-6441 Roč. 59, č. 2 (2014), s. 38-42
Poč.str.	5 s.
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vyd.	CZ - Česká republika
Klíč. slova	ZnO ; surfatron ; thin films ; Langmuir probe ; plasma density
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
CEP	TA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
	LH12045 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	V článku je popsána vícesvazková plazmová aparatura se čtyřmi nezávislými tryskami pracujícími na principu výboje generovaného surfatronem. Tento unikátní systém byl následně optimalizován pro depozice metodou plazmochemického napařování a použit pro přípravu ZnO tenkých vrstev a ZnO vrstev dopovaných hliníkem či manganem. Pomocí Langmuirovy sondy byly studovány časově rozlišené vlastnosti nízkotlakého plazmového svazku pracujícího v pulzním módu za účelem zjištění hustoty plazmatu a elektronové teploty v aktivní části plazmového kanálu. Následně byla připravena sada ZnO vzorků o tloušťce 300 nm, které byly analyzovány pomocí rentgenové difrakce, elektronové mikroskopie, povrchové profilometrie, UV světelné amperometrie, optické elipsometrie a dalších metod. Všechny zkoumané vzorky byly krystalické, vykazovaly vodivost typu N s šířkou zakázaného pásu 3.5 eV a byly fotoelektrochemicky aktivní.
Překlad anotace	In this paper we deal with multi plasma jet system with 4 independent nozzles working on the principle of surfatron generated discharge. Developed system was optimized for plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of ZnO thin films and ZnO films doped by aluminum and manganese. Time-resolved measurement of plasma parameters of low pressure deposition process in pulse mode was performed in order to estimate plasma density and electron temperature in the active part of plasma channel. Consequently the set of ZnO thin films with thickness 300 nm was prepared and analyzed by XRD, SEM, EDX, surface profilometry, UV-light amperometry and optical ellipsometry. All samples under study were crystalline in nature, revealed N-type conductivity with band gap 3.5 eV and were photo-electrochemicaly active.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2015

Počet záznamů: 1