Počet záznamů: 1

Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu

SYSNO ASEP	0424534
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu
Překlad názvu	Programmable system for monitoring and control of thin film deposition plasma systems
Tvůrce(i)	Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID}
Rok vydání	2013
Int.kód	DPCS/FZÚ/2013
Technické parametry	Rychlost 85 KSPS, přesnost měření je 0,024%, vstupní napětí +- 10 V
Ekonomické parametry	V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli automatizovaný systém pro monitorování a řízení procesu depozice tenkých vrstev v plazmatu. Laboratorní zařízení je nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Název vlastníka	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
IČ vlastníka	68378271
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Využ. jiným subjektem	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požad. na licenč. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Číselná identifikace	DPCS/FZÚ/2013
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	pohyb substrátu ; PC řízený
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
CEP	TA01010517 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	V současné době existují komerční technologická zařízení pro automatické řízení depozičního procesu. Tato zařízení jsou určena a uzpůsobena pro konkrétní aplikaci a po instalaci k trvalému procesu výroby, respektive depozice tenkých vrstev. Dodávají se jako integrovaná součást celého systému, reaktorové nádoby, napájecích zdrojů, čerpací vakuové a napouštěcí části. Tyto systémy, kromě toho, že je problematické je snadno implementovat na systémy jiné, nekompatibilní, se vyznačují velmi vysokými náklady. Pro naše podmínky bylo nutno vyvinout podobné zřízení, které není příliš rozsáhlé, umožňuje rychlou a jednoduchou montáž k často, třeba denně se měnícím experimentům a experimentálním zařízením. V našem konkrétním případě byl hlavním požadavkem programovatelný pohyb držáku vzorků, na nichž má být deponována vrstva. Pro tyto účely byl vyvinut počítačem řízený systém, který byl nakonec rozšířen o další funkce.
Překlad anotace	There are currently commercial technologies for the automatic control of the deposition process. These devices are designed and tailored for the specific applications and the installation of a permanent process of production, or deposition of thin films. They are available as an integrated part of the whole system, the reactor vessel, power supplies, vacuum pumping and filling part. Moreover these systems are difficult to implement into the different systems. Incompatibles are characterized by very high costs. For our conditions, it was necessary to develop a similar equipment which is not too extensive, allows for quick and easy installation to frequently, even daily-changing experiment and experimental device. In our particular case, the main requirement programmable movement of the sample holder on which the layer is to be deposited. For these purposes has been developed computer-controlled system that was eventually expanded to include additional features.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2014

Počet záznamů: 1