Deposition of hematite Fe.sub.2./sub.O.sub.3./sub. thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO ASEP	0423298
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Článek ve WOS
Název	Deposition of hematite Fe₂O₃ thin film by DC pulsed magnetron and DC pulsed hollow cathode sputtering system
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kubart, T. (SE) Brunclíková, Michaela (FZU-D)_RID Kšírová, Petra (FZU-D)_{RID, ORCID} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Remeš, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Thin Solid Films. - : Elsevier - ISSN 0040-6090 Roč. 549, Dec (2013), s. 184-191
Poč.str.	8 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	CH - Švýcarsko
Klíč. slova	HIPIMS ; thin films ; hollow cathode
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
CEP	GAP108/12/2104 GA ČR - Grantová agentura ČR
	LH12043 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
UT WOS	000327537100034
EID SCOPUS	84888639315
DOI	10.1016/j.tsf.2013.09.031
Anotace	Semiconducting hematite Fe2O3 thin films were fabricated by means of reactive sputtering in a high power DC pulsed magnetron (HIPIMS) and in a DC pulsed hollow cathode plasma jet sputtering system. Fused silica slides (quartz) were used as substrates.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2014

Počet záznamů: 1